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產(chǎn)品名稱(chēng)： RTP-1200快速退火爐
零售價(jià)
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市場(chǎng)價(jià)
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產(chǎn)品編號
11
數量
-
+
庫存:
0
產(chǎn)品展示
參數
RTP-1200小型快速退火爐(RTP/RTA)為韓國進(jìn)口的快速退火爐。
該儀器：尺寸小巧，使用風(fēng)冷、無(wú)須水冷，電流要求不高(3安培)，性?xún)r(jià)比高，使用方便，非常適合科研院所的科研使用。
技術(shù)規格：
- 加熱方式：紅外鹵素燈，600W；
- 紅外燈數量：4支；
- 最快升溫速率：100℃/秒；
- 最快降溫速率：50秒(1000℃ → 400℃)；
- 最高溫度：1200℃；
- 溫度精度：+/-0.3℃
- 最大樣品尺寸：15 x 20mm；
- 退火環(huán)境：真空、惰性氣體、空氣、其他工藝氣氛(如氧氣、氫氮混合氣等)；
- 真空泵及極限壓力：機械泵，10-3Torr水平(選配)；
- 電壓：220 V，單相；
- 儀器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；
- 質(zhì)量：凈重30Kg；
儀器特點(diǎn)：
- 可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下，對樣品進(jìn)行快速熱處理；
- 溫控精度高；
- 無(wú)須配置冷水機；
- 無(wú)須使用三相電，普通實(shí)驗室單相電即可使用；
- 緊湊的臺式設計；
- 儀器操作方便，樣片裝取容易；
- 適合高?；蜓芯克蒲惺褂?；
- 價(jià)格合理，高性?xún)r(jià)比；
應用領(lǐng)域：
- 快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
- 快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
- 快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 擴散 (Diffusion);
- 化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 離子注入后退火 (Implant Annealing);
- 電極合金化 (Contact Alloying);
- 晶體化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔點(diǎn)分析；
- 薄膜沉積；
- 等等…
參考用戶(hù)：
北京大學(xué)、南京大學(xué)、吉林大學(xué)、湖南大學(xué)、廣西大學(xué)、齊齊哈爾大學(xué)、西北大學(xué)、中科院北京納米所、中科院蘇州納米所、蘇州EST等。
關(guān)鍵詞:
快速退火爐；
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