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產(chǎn)品名稱(chēng)： 光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)
零售價(jià)
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市場(chǎng)價(jià)
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產(chǎn)品展示
參數
光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統，紫外曝光機等；ECOPIA為全球領(lǐng)先的半導體設備供應商，多年來(lái)致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力；并且其設備被眾多著(zhù)名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏(yíng)得了用戶(hù)的青睞。
產(chǎn)地：韓國ECOPIA公司；
型號：M-150
技術(shù)規格：
- 掩模尺寸：最大7英寸；
- 樣品尺寸：最大6英寸；
- 卡盤(pán)移動(dòng)：X,Y,Z,Theta軸手動(dòng)，楔形補償調平；
- 紫外光源：6.25" X 6.25"；
- 光源功率：350瓦紫外燈；
- 光源均勻性：<+/-3%；
- 光源365nm波長(cháng)強度：最大30毫瓦；
- 顯微鏡：雙顯微鏡系統；
- 顯微鏡移動(dòng)：X,Y,Z軸手動(dòng)調節；
- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm；
- 標配放大倍率：80X-400X；
- 顯示器：20" LCD；
- 曝光時(shí)間：0.1-999秒；
- 接觸模式：真空接觸，硬接觸，軟接觸，接近接觸(距離可調)；
- 對準精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；
- 電源：220V，單相，15安培；
主要特點(diǎn):
- 光源強度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統控制：手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤(pán)范圍可調；
- 專(zhuān)利技術(shù)：可雙面對準，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統，最大放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳統目鏡對準更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤(pán)可定做；
- 具有楔形補償功能；
關(guān)鍵詞:
光刻機，紫外曝光機
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